Со 2 по 6 июня проходит визит сотрудников Международной лаборатории квантовой оптоэлектроники НИУ ВШЭ – Санкт-Петербург в Лабораторию эпитаксиальных технологий ПИШ ЮФУ в целях реализации совместного исследования на тему «Источники оптического излучения на основе квантово-размерных структур III-V для интегральной оптоэлектроники: исследование физических явлений, разработка конструкции и методов формирования» в рамках проекта Зеркальных лабораторий между университетами.

В ходе визита планируется как проведение совместных экспериментальных исследований в формате интенсива, так и обсуждение полученных результатов, направлений дальнейших исследований, а также проведение научно-технических семинаров по тематике проекта.

Ответный визит молодых учёных Южного федерального университета в Санкт-Петербург намечен на осень 2025 года.

Ранее сотрудники Передовой инженерной школы ЮФУ совместно со специалистами НИУ ВШЭ – Санкт-Петербург разработали способ получения структурированных подложек для роста квантовых точек.

Текст: М.С. Солодовник

Ред.: Т.Т. Пацюк